膜厚量測儀 FE-300

產(chǎn)品簡介
薄膜到厚膜的測量范圍

UV~NIR光譜分析高性能的低價光學(xué)薄膜量測儀

藉由絕對反射率光譜分析膜厚

完整繼承FE-3000高gao端機種90%的強大功能

無復(fù)雜設(shè)定，操作簡單

產(chǎn)品型號：

更新時間：2025-06-24

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

訪問量：898

產(chǎn)品咨詢 18117546256

產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

光譜系統(tǒng)

顯微缺陷膜厚半導(dǎo)體晶圓缺陷檢測儀高光譜測試系統(tǒng) 瞬態(tài)吸收系統(tǒng) 太陽能電池量子效率太陽光模擬器IV系統(tǒng) 顯微光電流成像系統(tǒng) 探測器光響應(yīng)度系統(tǒng) 光譜變溫附件探針臺拉曼SERS增強試劑顯微熒光系統(tǒng) 組合熒光系統(tǒng) 鏡頭透過率測試系統(tǒng) 漫反射率測試系統(tǒng) 反射、吸收率系統(tǒng) 成像亮度計標準燈參考輻射定標電致發(fā)光系統(tǒng) 常規(guī)發(fā)射光譜系統(tǒng) 共聚焦拉曼光譜儀

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產(chǎn)品信息

特殊長度

●支持從薄膜到厚膜的各種薄膜厚度

●使用反射光譜分析薄膜厚度

●實現(xiàn)非接觸、非破壞的高精度測量，同時體積小、價格低

●簡單的條件設(shè)置和測量操作！任何人都可以輕松測量薄膜厚度

●通過峰谷法、頻率分析法、非線性最小二乘法、優(yōu)化法等，可以進行多種膜厚測量。

●非線性最小二乘法薄膜厚度分析算法可以進行光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率，k：消光計數(shù)）。

測量項目

絕對反射率測量

膜厚分析（10層）

光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率，k：消光計數(shù)）

測量對象

功能膜、塑料
透明導(dǎo)電膜（ITO、銀納米線）、相位差膜、偏光膜、AR膜、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、粘合劑、膠粘劑、保護膜、硬涂層、防指紋，等等。

半導(dǎo)體
化合物半導(dǎo)體、Si、氧化膜、氮化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、SOI、藍寶石等。

表面處理
DLC涂層、防銹劑、防霧劑等。

光學(xué)材料
濾光片、增透膜等。

FPD
LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有機膜、封裝材料）等

其他
HDD、磁帶、建筑材料等

原理

測量原理

大冢電子利用光學(xué)干涉儀和自有的高精度分光光度計，實現(xiàn)非接觸、無損、高速、高精度的薄膜厚度測量。光學(xué)干涉測量法是一種使用分光光度計的光學(xué)系統(tǒng)獲得的反射率來確定光學(xué)膜厚的方法，如圖 2 所示。以涂在金屬基板上的薄膜為例，如圖1所示，從目標樣品上方入射的光被薄膜表面（R1）反射。此外，穿過薄膜的光在基板（金屬）和薄膜界面（R2）處被反射。測量此時由于光程差引起的相移所引起的光學(xué)干涉現(xiàn)象，并根據(jù)得到的反射光譜和折射率計算膜厚的方法稱為光學(xué)干涉法。分析方法有四種：峰谷法、頻率分析法、非線性最小二乘法和優(yōu)化法。

膜厚量測儀 FE-300

規(guī)格

類型	薄膜型	標準型
測量波長范圍	300-800nm	450-780nm
測量膜厚范圍（SiO ₂換算）	3nm-35μm	10nm-35μm
光斑直徑	φ3mm / φ1.2mm
樣本量	φ200×5（高）mm
測量時間	0.1-10s內(nèi)
電源	AC100V ± 10% 300VA
尺寸、重量	280 (W) x 570 (D) x 350 (H) 毫米，24 公斤
其他	參考板，配方創(chuàng)建服務(wù)